ITO 타겟
당사는 독자적인 슬러리 형성 기술(평판형-MMF 법 )(원통형-CIP법)에 의해 다양한 형상·사이즈의 고밀도화를 실현.
사용시의 Nodules, 파티클의 저감을 약속드립니다.
또한 성막 후의 열처리를 할 수 없는 터치 패널 용도로도 고객의 요구에 맞는 커스터마이즈 제품을 제공합니다.
용도
- 디스플레이 패널
- 터치 패널 용도
특성치
표준 | 단위 | 비고 | ||
---|---|---|---|---|
조성 | In 2 O 3 | balance | wt.% | ー |
SnO 2 | 3,5,7,10 ※1 | ー | ||
순도 | ITO | ≧99.99 | % | ー |
상대 밀도 ※2 | ≥98 | % | ー | |
7.12 | g/cm 3 | ー |
※1 스탠다드 조성. 그 외의 조성에 대해서도, 요구에 따라 대응하겠습니다.
※2 10wt%SnO2-ITO
제조공정
독자제법에 의한 소결체 MMF™로 만들어진 초고밀도 스퍼터링 타겟
당사 독자적인 신제법(슬러리 성형 기술)입니다.
특성
- Nodules 의 감소
- 파티클, 금속 이물질 감소
- 이상 방전(아킹) 감소
생산 거점
일본:후쿠오카현 오무타시 대자 당선 2081(미이케 타겟 공장)
대만:타이중시 梧棲區緯五路6號 (대만 특격 가랑이 유한 공사)