ITO 타겟

당사는 독자적인 슬러리 형성 기술(평판형-MMF )(원통형-CIP법)에 의해 다양한 형상·사이즈의 고밀도화를 실현.

사용시의 Nodules, 파티클의 저감을 약속드립니다.
또한 성막 후의 열처리를 할 수 없는 터치 패널 용도로도 고객의 요구에 맞는 커스터마이즈 제품을 제공합니다.

용도

  • 디스플레이 패널
  • 터치 패널 용도

특성치

  표준 단위 비고
조성 In 2 O 3 balance wt.%
SnO 2 3,5,7,10 ※1
순도 ITO ≧99.99 %
상대 밀도 ※2 ≥98 %
7.12 g/cm 3

※1 스탠다드 조성. 그 외의 조성에 대해서도, 요구에 따라 대응하겠습니다.
※2 10wt%SnO2-ITO

제조공정

독자제법에 의한 소결체 MMF™로 만들어진 초고밀도 스퍼터링 타겟

당사 독자적인 신제법(슬러리 성형 기술)입니다.

특성

  • Nodules 의 감소
  • 파티클, 금속 이물질 감소
  • 이상 방전(아킹) 감소
⇒ 고객의 생산효율향상・비용절감에 공헌.

생산 거점

일본:후쿠오카현 오무타시 대자 당선 2081(미이케 타겟 공장)
대만:타이중시 梧棲區緯五路6號 (대만 특격 가랑이 유한 공사)

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